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光电流成像系统

光电流成像系统

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简介 

        光电流成像系统Photocurrent Mapping System又叫扫描光电流显微镜Scanning PhotoCurrent Microscopy,是一种用于检测材料光电流强度分布的专用设备,它既可以用来测量光电材料的光电响应信号,又可以用来表征材料的光电性质。XperRam Photocurrent光电流成像系统将光电材料对于光信号响应的不均匀性以可量化且可视化的方式显示出来。通过该系统,可以研究例如太阳能电池光生电流的不均匀性,探索光电器件量子效率与器件电阻的分布特性,研究器件吸收与电荷生成的微区特性,以及光电材料界面、半导体结区的品质分布等。

        XperRam Photocurrent光电流成像系统包括激光器、显微镜、激光扫描振镜、数字源表和软件部分。其工作原理如下图所示。激光通过扫描振镜,经显微镜物镜聚焦到样品上,样品上因光电效应产生电流,电流信号读出后传至电脑。扫描时,振镜控制激光聚焦光斑在样品XY方向上扫描移动,软件记录每一个激光聚焦光斑的位置和其对应激发的电流值,即可实现光电流成像(Photocurrent Mapping)



该设备还可以搭配光谱仪和CCD,测量拉曼光谱成像和荧光光谱成像。


系统特点

>>多种测量模式

一台设备即可实现拉曼成像,荧光成像,光电流成像,荧光寿命成像等多种功能。当需要对样品进行多种测量时,无需移动样品到多台设备上测量。可以对样品同一位置进行拉曼,荧光,荧光寿命,光电流多种测量,不引入样品移动造成的位置误差。


>>快速大面积扫描成像 

传统的拉曼光谱系统多通过移动样品台来实现扫描成像,这种方式成像速度较慢,样品台上也无法放置大体积,大重量的样品。XperRam Ultimate光谱系统通过振镜调节激光聚焦光斑的位置完成扫描成像,扫描过程中样品台台保持不动,比起传统的平台位移方式具有扫描速度快,扫描精度高,扫描范围大的特点(扫描范围>200微米*200微米,步进<50nm,精度<10nm,扫描速度>1000/秒)。 


>>多种样品台可选,可定制

样品台可根据客户需求选配探针台,低温恒温器,高温热台等,还可以根据客户已有探针台,或者其他具体情况定制产品。

 

系统参数 

激光器

可选配1-3个激光器

波长:405-1550nm

可选配1个光纤接口用于接入外部光源

可选配超连续谱白光激光器

显微镜

奥林巴斯正置显微镜BX4*BX5*BX6*

落射式/透射式LED照明

可选配多种倍率物镜及超长焦物镜

扫描模块

扫描面积:>200μm*200μm

扫描精度:<10nm

最小步进:<50nm

扫描速度:>1000/

电流

测量范围:1pA-1A

准确度:0.04%

其他选项

低温恒温器(2.2K)/高温热台(1500)

各种类型探针台

可配斩波器,前置放大器,锁相放大器等提升探测灵敏度

系统可定制,详情请联系枫火科技


应用领域 

>>材料分析

石墨烯,二维材料,结晶度分析等

>>电气工程与电子工程

晶圆分析,太阳能,半导体等 


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